美国的技术战显示出崩溃迹象

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港媒：美对华技术战呈现崩溃迹象


香港亚洲时报网站11月27日刊登题为《美国的技术战显示出崩溃迹象》的文章，作者为戴维·戈德曼。文章摘编如下：

世界半导体技术领域的头号参与者荷兰阿斯麦控股公司反对美国提出的停止向中国出售其半导体设备的高调要求，而且没有迹象表明荷兰政府准备向华盛顿屈服。阿斯麦控股公司制造了世界上最好的光刻机，并已向中国芯片制造商出售了近200台深紫外设备。

其最先进的极紫外设备——即制造6纳米芯片所需的设备——所使用的美国知识产权，足以使华盛顿能够阻止其对中国的销售。但用来制造16纳米芯片以及在某些限制条件下7纳米芯片的深紫外技术则不受美国的限制。

尽管美国要求荷兰对华停售，但荷兰方面很可能会继续把相关设备卖给中国。中国企业称，它们可以从美国的限制中找到变通办法。与此同时，韩国芯片制造商正在向中国出售其最新的芯片。

荷兰外贸与发展合作大臣莉谢·施赖纳马赫11月23日在荷兰议会说：“重要的是我们要捍卫自己的利益——我们的国家安全，还有我们的经济利益。”

美国高级官员将于本月晚些时候前往荷兰，就中国问题对荷兰人进行游说。但有迹象表明，荷兰政府已经作出了决定。

包括东京电子公司、佳能公司和日本光学工业公司在内的日本企业也在向中国出售设备。中国购买的芯片制造设备约占日本总销量的20%。

据《日经亚洲》杂志主编奥村茂三郎在上周末发表的关于在东京举行的三边委员会会议的报道称，日本当权派“对美国强加的与中国‘脱钩’的情况感到厌恶和厌倦”。报道称，一些与会者还对贸易制裁的独断性质和不可预测性以及美国对制裁的实施感到担忧。

他们对这两个最强大国家之间的对抗非常不安，他们坚信美国和欧洲同行应该听取他们的意见和观点。多名委员强调，如果三边委员会想要有效应对全球问题，中国的参与是不可或缺的。

一位美国半导体行业专家对《亚洲时报》记者说：“美国政府的管理者完全不了解半导体行业如何运转。”
参考消息 原创 2022-11-29 12:50 · 来自北京 · 《参考消息》官方账号
来源：参考消息网
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光刻机要一直被“卡脖子”？华为：我偏不...



国产光刻机技术有了新进展了！老狐最近得知，华为公布了自研光刻机的部分技术专利。

根据专利显示，华为申请的这项专利并不是制造 EUV 光刻机的专利，而是 EUV 光刻机其中一部分的专利。

该专利主要解决光刻机中的“匀光问题”，匀光问题”是在匀光系统上所出现的问题。

简单来说解决这个匀光问题，对成品质量有着决定性作用，光越均匀，成品也就越好，大大提高了良品率。

对华为的好处是，能更好地控制住成本，这样一来，商用的概率也就越大了。

事实上，除了国产光刻机技术在不断发展，国外光刻机的卡脖子状况，也出现了松动的迹象。

2018 年开始，ASML 被美国施压，禁止向中国出口最先进的极紫外线光刻机（EUV），但仍可以销售上一代的深紫外线光刻机（DUV）。

到了今年，美国变本加厉，要求连 DUV 也要禁售，这下 AMSL 不干了。

11 月 25 日，荷兰外贸与发展合作大臣莉谢·施赖纳马赫尔表示，荷兰正与美国政府就关于向中国出口光刻机的新限制进行谈判。

很明显，美国限制光刻机对中国出口，大大伤害了 ASML 的经济利益，他们不想再听美国人的话。

今年第一季度 ASML 就向中国出货了 23 台 DUV 光刻机，中国市场就此超过美国，成为 ASML 第三大市场。

在被限制的条件下，依然能排到第三，可见国内市场的潜力，ASML 肯定不愿意放弃。

另一方面，中国科技的特点，是越被封杀，就越要发展，赶上封杀者，最后迫使封杀者不得不低头。

比如，中国在突破盾构机技术后，德国盾构机就降价了，但中国依然按自己的步伐制造生产盾构机。

如今，这一幕很可能会再现，如果 ASML 继续封杀，等国产光刻机起来，ASML 日子就不好过了。

于是，在封杀多年后，ASML 光刻机，重新出现在中国大陆。

由上海建工四建集团承建的临港重装备 F16-01 地块，近日举行了鼎泰匠芯洁净室交付仪式，首台 ASML 光刻机搬入。

该项目于 2021 年 7 月开工，建成后将成为中国首座 12 英寸车规级功率半导体自动化晶圆厂。

据悉，建设包括 FAB 生产厂房、OS 生产调度及研发大楼、CB 综合楼、WH 仓库、CUB 动力站等大型群体工程。

项目完成后，可实现年产能约 36 万片 12 英寸功率器件晶圆片，主要生产 MOSFET、GaN FET、SiC FET 等功率器件产品。

不过，虽然国产光刻机开始不断进步，但技术差距和国外依旧有较大差距，这是客观现实。

现阶段，我国无法制造高端光刻机，但可以制造一些低、中端的光刻机。

2020 年 6 月，上海微电子设备有限公司透露将在 2021—2022 年交付首台国产 28 纳米工艺浸没式光刻机。

国产 28 纳米光刻机，与已面世的5纳米顶尖制程，依然存在较大的差距，

但部分常见的射频芯片、各种电器的驱动芯片等非核心逻辑芯片，仍可以采用 28~90 纳米工艺。

我国自主光刻机虽与外国先进水平仍有不小差距，但未来依然可期。

因此老狐认为，我们既不要妄自尊大，也不要妄自菲薄，只有脚踏实地，一步一步发展，才是正道。

科技狐 原创 2022-11-29 11:00 · 来自广东 · 优质科技领域创作者

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